接着界面における空間不均一な構造を、走査型および透過型電子顕微鏡（SEMおよびTEM）、原子間力顕微鏡（AFM)を駆使して三次元構造解析を行う。また併行してX線光電子分光法（XPS）等の分光法により接着界面の化学状態解析を行う。前者では、集束イオンビーム（FIB）を試料表面に照射・加工し、観察（FIB-SEM観察）を繰り返し、得られた連続断面像から3次元構造を再構築する。また、TEMの電子線トモグラフィも活用する。これらの手法を駆使することで、被着体表面や、接着界面の内部構造を、幅広い空間スケールと高い空間分解能で評価する。実試料として金属／高分子界面を計画している。例えば、硬化反応により構築された空間不均一な接着界面・接着層におけるモルフォロジー、剥離界面近傍におけるモルフォロジー、さらには高分子材料内部における異種分散剤の分散状態やその界面の状態等を3次元的に評価する。得られる情報を、G1A（実験・解析G）の他グループやG1B（理論・シミュレーションG）のシミュレーション結果と組みわせて相補的に議論し、接着界面におけるナノスケールからメソスケールにおける階層的な構造を明らかにする。